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氧化碲(TeO2)晶體生長(zhǎng)工藝淺談
TeO2晶體是一種具有高品質(zhì)因子的聲光材料。該晶體為四方晶系,結(jié)晶形態(tài)為變形的金紅石結(jié)構(gòu)。它具有雙折射性和旋光特性,旋光度為 87°/mm,光活性大,沿[110]方向傳播的聲速很小,僅為 616m∕s,比普通聲光介的聲速慢 5~6 倍,在相同的通光孔徑下用TeO2晶體制作的聲光器件,其分辨率可以有數(shù)量級(jí)的提高。TeO2晶體良好的聲光性能是制作聲光偏轉(zhuǎn)器、調(diào)制器、諧振器、濾波器的理想材料。目前,TeO2晶體還被多個(gè)國(guó)家物理實(shí)驗(yàn)室用來(lái)作為研究雙β衰變的材料。
TeO2晶體的生長(zhǎng)方法通常有兩種:坩堝下降法和晶體提拉法。這兩種方法都是從熔體中生長(zhǎng)晶體。坩堝下降法又叫布里奇曼法。基本原理是將原料放入具有特殊形狀的坩堝里,在結(jié)晶爐內(nèi)加熱使之熔化,然后使坩堝緩慢下降,通過(guò)溫度梯度較大的區(qū)域時(shí),熔體在坩堝中自下而上的結(jié)晶為整塊晶體。
坩堝下降法的特點(diǎn):
1. 晶體的形狀可以隨坩堝的形狀而定,適合異形晶體的生長(zhǎng)
2. 可根據(jù)籽晶定向生長(zhǎng),也可自然成核生長(zhǎng)。
3. 適合大尺寸、多數(shù)量的晶體生長(zhǎng),一爐可以同時(shí)生長(zhǎng)幾根或幾十根不同規(guī)格尺寸的晶體。
4. 操作工藝比較簡(jiǎn)單。
坩堝下降法缺點(diǎn):
1.坩堝下降法生長(zhǎng)晶體時(shí),爐膛內(nèi)徑向溫度分布不夠均勻,因此生長(zhǎng)出的晶體質(zhì)量很難進(jìn)一步提高。
2.晶體生長(zhǎng)的全過(guò)程都在坩堝內(nèi)進(jìn)行,不便于直接觀察晶體的生長(zhǎng)情況。
3.晶體在坩堝內(nèi)結(jié)晶過(guò)程中易產(chǎn)生坩堝對(duì)晶體的壓應(yīng)力和寄生成核,所以對(duì)坩堝的內(nèi)表面光潔度有較高的要求。
4.生長(zhǎng)過(guò)程中的提純作用差,對(duì)原料的純度要求高。
提拉法的主要優(yōu)點(diǎn)是:
在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中,可以方便地觀察晶體的生長(zhǎng)狀況;晶體在熔體的自由表面處生長(zhǎng),而不與坩堝相接觸,這樣能減小晶體的應(yīng)力并防止坩堝壁上的寄生成核;可以方便地使用定向籽晶和“縮頸”技術(shù)工藝,以得到完整的晶體和所需取向的晶體。
由以上兩種晶體生長(zhǎng)方法對(duì)比可知,坩堝下降法具有能夠生長(zhǎng)大尺寸、異形晶體和工藝操作簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn),但是和提拉法相比,坩堝下降法存在徑向溫度分布不均勻、缺乏進(jìn)一步的提純效果以及對(duì)原料純度和坩堝內(nèi)表面光潔度要求高等缺點(diǎn),晶體質(zhì)量很難進(jìn)一步提高。相比而言,提拉法有其優(yōu)點(diǎn),如爐內(nèi)的徑向溫度比較均勻,且在晶體生長(zhǎng)時(shí)有一定的再提純作用,具備進(jìn)一步提高晶體質(zhì)量的潛力。目前,國(guó)外基本上均是采用提拉法生長(zhǎng)TeO2晶體。
TeO2晶體在生長(zhǎng)過(guò)程中有特定的自身因素,比如TeO2在450°C左右開(kāi)始升華,在熔點(diǎn)附近蒸汽壓力較高,揮發(fā)嚴(yán)重;由于TeO2熔點(diǎn)低、粘度大,晶體中易產(chǎn)生氣泡、云層、散射等缺陷,使用提拉法調(diào)節(jié)拉速和轉(zhuǎn)速可以避免這些缺陷;籽晶取向沿[100]、[001]、[110]方向都能拉出單晶,但不同方向生長(zhǎng)速率有明顯的各異性,沿[001]方向的生長(zhǎng)速率很大,會(huì)在晶體中出現(xiàn)晶界,沿[110]方向生長(zhǎng)并選擇優(yōu)質(zhì)的籽晶可以生長(zhǎng)出高質(zhì)量的晶體。
多年來(lái),我們一直深入開(kāi)展提拉法生長(zhǎng)TeO2晶體的試驗(yàn)研究,如TeO2晶體的生長(zhǎng)工藝參數(shù)與晶體開(kāi)裂、晶體缺陷和晶體閃射之間的內(nèi)在關(guān)系,晶體生長(zhǎng)參數(shù)與固液界面形態(tài)的關(guān)系及界面形態(tài)與晶體質(zhì)量的關(guān)系及籽晶的定向、切向問(wèn)題等等,現(xiàn)生長(zhǎng)出高質(zhì)量、大直徑、聲光質(zhì)量因素好的TeO2晶體。公司下一步將對(duì)TeO2晶體摻雜問(wèn)題開(kāi)展深入研究。
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